ASML的EUV光刻机现阶段变成7nm如下制程的关键在于了，三星、台积电、Intel也都再次购买 单价高达10亿元的EUV光刻机用于生产。除此互联网外CPU除此外，内存工艺一互联网定会逐步导入EUV光刻机，三星已经 SK海力士还得真的很 很 做。
据韩国媒体相关报道，全球市场第二大DRAM内存供应商SK海力士现阶段在研发1a nm工艺的内存，内部代号“南极星”，确定节点估计在15nm，预计未互联网来会引入EUV光刻机生产。
对内存对于，它跟CPU逻辑工艺就如面临着也能微缩的还得可减少还得可减少解决 ，EUV光刻机也能可减少多重曝光工艺，提供完整工艺精度，进而也能可减少生产时间里、大幅提高成本，并大幅提高性能。
只不过内存用的EUV工艺还得可减少还得可减少解决 不会少，首要还得可减少还得可减少解决 估计 EUV光刻机售价太高，10亿一台，还得可减少综合综合考虑维护费用，估计 初期要承担不小的成本多重压力。
现阶段SK海力士最先进的内存工艺原因是1y、1z nm，上半年上半年这两种工艺将占到40%的产能比重。
3月初，三星接受采访，将从第四代10nm级（D1a）DRAM或高端级14nm级DRAM已经 全面导入EUV，上半年基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片，预计未来会使12英寸晶圆的生产率翻番。
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